2023年5 月 26 日，萊伯泰科受電子化工新材料產業聯盟的邀請，出席江蘇常州“2023•光刻膠及聚酰亞胺先進技術和產業應用研討會”，大會上萊伯泰科帶來半導體領域解決方案，并與行業內各位專家進行熱切討論。

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光刻是半導體制造微圖形工藝的核心，光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的 35%。目前國內光刻膠產業仍處于發展起步階段，高端半導體光刻膠市場仍被日本和美國公司壟斷，國產替代率較低。

2021年5月20日，萊伯泰科重磅發布LabMS 3000電感耦合等離子體質譜儀，強勢進軍半導體行業。2023年3月10日，萊伯泰科隆重推出針對于半導體行業研發生產的LabMS 5000 ICP-MS/MS電感耦合等離子體質譜，致力于為半導體行業用戶提供更加精準、高效的解決方案。

電感耦合等離子體質譜儀LabMS 3000 ICP-MS

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯質譜儀（ICP-MS/MS)

萊伯泰科作為主要國產儀器廠商之一，在分析儀器領域已深耕20年，始終堅守在推動我國科學儀器發展的前線。近些年萊伯泰科在質譜創新之路的進展加速著國產替代的進程，以實際行動助力我國半導體產業健康穩步發展，實現高水平科技自立自強。

萊伯泰科展臺